Diplomarbeiten, Bachelor- und Masterarbeiten
14.08.2008, Abschlussarbeiten, Bachelor- und Masterarbeiten
Design eines optischen Messkopfes für die Dünnschichtinterferometrie
Die Dünnschichtinterferometrie ist ein gängiges Verfahren zur Schichtdickenanalyse. In Zukunft sollen elektronische Schaltungen, wie z.B. RFID-Chips, im Druckverfahren hergestellt werden. Dabei ist die
Schichtdicke ein wichtiger Parameter zur Qualitätsicherung. Um eine hohe örtliche Auflösung zu garantieren, muss das Licht auf die dünne Schicht fokussiert werden. Standardkollimatoren bzw. –fokussierungen sind für eine spezielle Wellenlänge
optimiert. Bei der hier verwendeten Lichtquelle muss die zu entwerfende Optik aber über einen großen Wellenlängenbereich möglichst gut fokussieren.
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